苏大维格:关于牵头承担裸眼3D领域国家重点项目的公告

证券代码：300331证券简称：苏大维格公告编号：2022-006
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
关于牵头承担裸眼 3D 领域国家重点项目的公告
本公司及董事会全体成员保证信息披露的内容真实、准确、完整，没有虚假记载、误导性陈述或重大遗漏。
根据国家科技部下发的《关于国家重点研发计划新型显示与战略性电子材料重点专项2021年度项目立项的通知》，苏州苏大维格科技集团股份有限公司（以下简称“公司”）作为项目牵头承担单位，苏州大学、武汉华星光电技术有限公司等多家单位共同参与的裸眼 3D 领域的“超薄宽视角向量光场显示技术与系统”
项目已获批立项，并签订了国家重点研发计划项目任务书。近日，公司收到国家科技部通知，该项目任务书已完成签章，进入启动程序，具体情况如下：
一、项目基本情况
项目名称（编号）：超薄宽视角向量光场显示技术与系统（2021YFB3600500）
项目牵头承担单位：苏州苏大维格科技集团股份有限公司
项目负责人：陈林森
项目执行期限：2021年12月至2025年11月项目总经费预算：总预算3500万元，其中中央财政专项资金1500万元，由4家参与单位按照研究课题享有相关经费。
项目简介：
1、项目实施的意义
本项目旨在通过响应国家重大战略需求，推动我国 LCD 显示产业垂直整合，推动 3D 显示技术跨代发展，对万亿级平板显示产业的跨代发展具有重大意义。
2、项目技术的应用
本项目将研究超薄宽视角向量光场等裸眼 3D 显示技术在文化娱乐、医疗卫
生、教育教学、国防军事等领域中的应用问题，研究复杂场景中地理信息、生物组织等三维模型的快速渲染以及控制方法，探究向量光场渲染方法与向量光场显示系统的融合方法，综合娱乐、医疗、教育、军事领域的需求特点，渲染生成面向不同场景的光场内容，为观看者提供沉浸式的视觉体验，实现裸眼光场三维显示的示范性应用。
3、项目研究目标概述
在光场相位调控器件方面，研制微纳图像化制造系统，突破变参量微纳结构的纳米光刻关键核心技术，获得与平板显示匹配的柔性光场显示器件；在显示面板方面，开发大推力 GOA（Gate on Array）驱动电路和完成高穿透像素设计及排布，解决高精细材料和制程关键问题，制备出超高像素密度显示面板，实现逐像素三维光场渲染和驱动方法；在系统集成方面，基于微纳结构色散特性，解决显示系统色模糊问题，突破指向性背光源的关键技术，实现超薄宽视角的向量光场显示工程样机的搭建；在光场视觉评价方面，设计符合人眼观察习惯的视觉评价模型，为建立用户满意和舒适的光场三维显示环境提供有效支持，最终实现典型示范应用。
二、对公司的影响和存在的风险
本次由公司牵头承担，产业巨头及研究机构等共同参与的国家重点研发计划项目落地，是国家科技部门、产业及学术等多个层面对公司在微纳光学领域研发实力、科技成果转化能力和产业化能力的充分肯定，有利于进一步推动公司新型显示尤其是裸眼 3D 显示技术的跨代发展，促使相关产品完善，促进公司裸眼 3D相关技术所带来的沉浸式体验在文化娱乐、医疗卫生、教育教学、国防军事、元
宇宙等领域中的应用和产业化布局，提升公司核心竞争力。
截至本公告披露日，上述项目中央财政专项经费已部分到账。资金到位后，公司将按照项目任务书安排，及时投入使用，同时积极对接和拓展产业化应用，并按《企业会计准则》的相关规定进行会计处理，对公司近期财务指标不会产生重大影响。
本次项目执行时间较长，在项目推进过程中可能存在技术、政策方面的风险，具有一定的不确定性，敬请广大投资者注意投资风险。
特此公告。苏州苏大维格科技集团股份有限公司董事会
2022年1月25日